CrSi অ্যালয় স্পুটারিং টার্গেট উচ্চ বিশুদ্ধতা পাতলা ফিল্ম Pvd আবরণ কাস্টম তৈরি

ক্রোনিয়াম সিলিকন স্পুটারিং টার্গেটের বানোয়াট নিম্নলিখিত পদক্ষেপগুলি নিয়ে গঠিত:
1. সিলিকন এবং ক্রোনিয়ামের ভ্যাকুয়াম গলন ধাপে অ্যালয় পেতে।
2. পাউডার নাকাল, বস্তাবন্দী এবং উচ্ছেদ.
3. আধা-সমাপ্ত পণ্য পেতে গরম আইসোস্ট্যাটিক প্রেসিং চিকিত্সা।
4. ক্রোমিয়াম-সিলিকন খাদ স্পটারিং লক্ষ্য উপাদান প্রাপ্ত করার জন্য রুক্ষ ক্রোমিয়াম-সিলিকন খাদ স্পুটারিং লক্ষ্য উপাদান মেশিনিং।

CrSi প্রায়ই উচ্চ প্রতিরোধের ফিল্ম উপাদান হিসাবে ব্যবহৃত হয়, এটি উচ্চ প্রতিরোধের, স্থিতিশীলতা এবং প্রতিরোধের নিম্ন তাপমাত্রা সহগ বৈশিষ্ট্যযুক্ত। ক্রোনিয়াম এবং সিলিকন Cr3Si, Cr5Si3, , CrSi, CrSi2 এর মতো অনেকগুলি সিলিসাইড পর্যায় তৈরি করতে পারে। CrSi ফিল্মের উত্পাদন প্রক্রিয়া, রচনা এবং তাপ চিকিত্সা প্রক্রিয়া এর কার্যকারিতাকে ব্যাপকভাবে প্রভাবিত করে।

রিচ স্পেশাল ম্যাটেরিয়ালস স্পুটারিং টার্গেট তৈরিতে বিশেষজ্ঞ এবং গ্রাহকদের স্পেসিফিকেশন অনুযায়ী ক্রোনিয়াম সিলিকন স্পাটারিং ম্যাটেরিয়াল তৈরি করতে পারে। আরো তথ্যের জন্য, আমাদের সাথে যোগাযোগ করুন.