CrAlSi অ্যালয় স্পুটারিং টার্গেট উচ্চ বিশুদ্ধতা পাতলা ফিল্ম Pvd আবরণ কাস্টম তৈরি

ক্রোনিয়াম অ্যালুমিনিয়াম সিলিকন স্পুটারিং টার্গেটের তৈরিতে নিম্নলিখিত পদক্ষেপগুলি রয়েছে:
1. সিলিকন, অ্যালুমিনিয়াম এবং ক্রোনিয়ামের ভ্যাকুয়াম গলন ধাপে অ্যালয়েস পেতে।
2. পাউডার নাকাল এবং মিশ্রণ.
3. ক্রোমিয়াম অ্যালুমিনিয়াম সিলিকন খাদ sputtering লক্ষ্য প্রাপ্ত গরম isostatic প্রেসিং চিকিত্সা.
ক্রোনিয়াম অ্যালুমিনিয়াম সিলিকন স্পুটারিং টার্গেটগুলি ফিল্ম পারফরম্যান্স উন্নত করতে এর পরিধান প্রতিরোধের এবং উচ্চ তাপমাত্রার অক্সিডেশন প্রতিরোধের কারণে কাটার সরঞ্জাম এবং ছাঁচে ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়।
CrAlSi লক্ষ্যগুলির PVD প্রক্রিয়া চলাকালীন একটি নিরাকার Si3N4 ফেজ গঠিত হবে। নিরাকার Si3N4 ফেজ সংযোজনের কারণে, শস্যের আকারের বৃদ্ধি সংযত হতে পারে এবং উচ্চ তাপমাত্রার জারণ প্রতিরোধের বৈশিষ্ট্যকে উন্নত করতে পারে।