AlTa Sputtering Target Тънкослойно PVD покритие с висока чистота, изработено по поръчка

Мишените се приготвят чрез смесване на алуминиеви и танталови прахове или стапяне във вакуум, последвано от уплътняване до пълна плътност. Така уплътнените материали по избор се синтероват и след това се оформят в желаната целева форма.

Алуминиевата танталова мишена за разпръскване има висока чистота, хомогенна микроструктура и отлична проводимост. Той се използва широко при формирането на тънки филми за индустрията за плоски дисплеи. Алуминиевият тантал също може да бъде добавен за производството на високоефективна титанова сплав, за да се подобри нейната пригодност при високи температури.