Müasir binalar şüşə işıqlandırmanın böyük sahələrindən istifadə etməyə başladı. Bu cəhət bizə daha işıqlı otaqlar və daha geniş üfüqlər verir. Digər tərəfdən, şüşə vasitəsilə ötürülən istilik ətrafdakı divarlardan xeyli yüksəkdir və bütün binanın enerji istehlakı əhəmiyyətli dərəcədə artır..
İnkişaf etmiş ölkələrdə aşağı radiasiyalı şüşənin 90% -dən çox istifadə nisbəti ilə müqayisədə, Çində aşağı radiasiyalı şüşənin nüfuzetmə dərəcəsi yalnız təxminən 12% -dir və Çində hələ də inkişaf üçün çox yer var. Bununla belə, ilə müqayisədə adi şüşə və onlayn low-E şüşə, offline LowE şüşənin istehsal dəyəri yüksəkdir, bu da müəyyən dərəcədə tətbiqini məhdudlaşdırır. Yerli şüşə emalı müəssisələrinin istehsal xərclərini davamlı olaraq azaltmaq öhdəliyi var. örtük məhsulları, tətbiqi sürətləndirmək, enerjiyə qənaət etmək, ətraf mühiti yaxşılaşdırmaq və sosial davamlı inkişafa nail olmaq.
1、Hədəf formasının təsiri
Geniş örtük sahələri tez-tez planar oriyentasiya və fırlanma oriyentasiyası daxil olmaqla, formaya görə hədəf materialdan istifadə edir. Ümumi planar hədəflərə mis hədəf, gümüş hədəf,Ni-Cr hədəfi və qrafit hədəfi. Ümumi fırlanan hədəf sink alüminium hədəfi, sink qalay hədəfi, silikon alüminium hədəfi, qalay hədəfi, titan oksidi hədəfi, sink oksidi alüminium hədəfi və s. var. Hədəf forması maqnetron püskürtmə örtüyünün sabitliyinə və film xüsusiyyətlərinə və istifadəsinə təsir edəcəkdir. hədəfin nisbəti çox yüksəkdir. Hədəfin forma planlamasını dəyişdirdikdən sonra örtünün keyfiyyəti və istehsal gücü yaxşılaşdırıla bilər və xərclərə qənaət edilə bilər..
2、Nisbi sıxlığın və hədəfin təmizlənməsinin təsiri
Hədəfdəki nisbi sıxlıq praktiki sıxlığın hədəfin nəzəri sıxlığına nisbətidir, tək komponentli hədəfin nəzəri sıxlığı kristal sıxlığıdır və ərinti və ya qarışığın nəzəri sıxlığı nəzəri sıxlığa uyğun olaraq hesablanır. hər bir elementin sıxlığı və ərinti və ya qarışıqdakı nisbət.. Termal çiləyicinin hədəf quruluşu məsaməli, yüksək oksigenli (vakuum spreyi ilə belə, ərinti hədəfində oksidlərin və azot birləşmələrinin istehsalı qaçınılmazdır) və görünüşü boz və metal parıltıdan məhrumdur. Adsorbsiya edilmiş çirklər və nəm çirklənmənin əsas mənbələridir.
3、Hədəf hissəcik ölçüsünün və kristal istiqamətinin təsiri
Hədəfin eyni çəkisində kiçik hissəcik ölçüsü olan hədəf böyük hissəcik ölçüsü olan hədəfdən daha sürətlidir. Bu, ilk növbədə ona görədir ki, sıçrama prosesində hissəcik sərhədi asanlıqla işğal edilir, hissəcik sərhədi nə qədər çox olarsa, filmin əmələ gəlməsi bir o qədər tez olur. Hissəciklərin ölçüsü nəinki püskürtmə sürətinə təsir edir, həm də film əmələ gəlməsinin keyfiyyətinə təsir göstərir. Məsələn, EowE məhsullarının istehsal prosesində NCr infraqırmızı əks etdirən Ag təbəqəsinin qulluq təbəqəsi kimi çıxış edir və keyfiyyətinə böyük təsir göstərir. örtük məhsulları. NiCr film təbəqəsinin böyük sönmə əmsalı sayəsində o, ümumiyyətlə nazikdir (təxminən 3 nm). Əgər hissəcik ölçüsü çox böyükdürsə, püskürtmə müddəti qısalır, film təbəqəsinin sıxlaşması pisləşir, Ag təbəqəsinin saxlanma təsiri azalır və örtük məhsullarının oksidləşməsinə səbəb olur.
nəticə
Hədəf materialının forma planlaşdırılması əsasən hədəf materialın istifadə dərəcəsinə təsir göstərir. Ağlabatan ölçülü planlaşdırma hədəf materialın istifadə dərəcəsini yaxşılaşdıra və xərclərə qənaət edə bilər. Hissəcik ölçüsü nə qədər kiçik olarsa, örtük sürəti nə qədər yüksək olarsa, vahidlik bir o qədər yaxşı olar. Təmizlik və sıxlıq nə qədər yüksək olarsa, məsaməlilik bir o qədər aşağı olarsa, filmin keyfiyyəti bir o qədər yaxşı olar və şlakların boşaldılmasının azalması ehtimalı bir o qədər aşağı olar.
Göndərmə vaxtı: 27 aprel 2022-ci il