Bazar tələbinin artması ilə daha çox növ püskürtmə hədəfləri daim yenilənir. Bəziləri müştərilərə tanış, bəziləri isə tanış deyil. İndi biz sizinlə maqnetron püskürən hədəflərin növlərini bölüşmək istərdik.
Püskürtmə hədəfi aşağıdakı növlərə malikdir: metal püskürtmə örtüyü hədəfi, ərinti püskürtmə örtüyü hədəfi, keramika püskürtmə örtüyü hədəfi, borid keramika püskürtmə hədəfi, karbid keramika püskürtmə hədəfi, flüorlu keramika püskürtmə hədəfi, nitrid keramika püskürtmə hədəfi, oksid keramika püskürtmə hədəfi, , silisid keramika püskürtmə hədəfi, sulfid keramika püskürtmə hədəfi, tellurid keramika püskürtmə hədəfi, digər keramika hədəfləri, Xrom qatqılı silikon oksid keramika hədəfi (CR SiO), indium fosfid hədəfi (INP), qurğuşun arsenid hədəfi (pbas), indium arsenid hədəfi (InAs).
Maqnetron püskürtmə ümumiyyətlə iki növə bölünür: DC püskürtmə və RF püskürtmə. DC püskürtmə avadanlığının prinsipi sadədir və metal püskürən zaman onun sürəti də sürətlidir. RF püskürtmə geniş istifadə olunur. Keçirici məlumatları püskürtməklə yanaşı, qeyri-keçirici məlumatları da sıçraya bilər. Eyni zamanda, püskürtmə hədəfi oksidlər, nitridlər və karbidlər kimi mürəkkəb məlumatları hazırlamaq üçün reaktiv püskürtmə də həyata keçirir. RF tezliyi artarsa, o, mikrodalğalı plazma sıçramasına çevriləcək. Hal-hazırda elektron siklotron rezonans (ECR) mikrodalğalı plazma püskürtmə üsulundan çox istifadə olunur.
Göndərmə vaxtı: 18 may 2022-ci il