MoNb Püskürtmə Hədəfi Yüksək Təmizlikdə İncə Film PVD Örtüyü Xüsusi Hazırlanmışdır

Molibden Niobium hədəfləri Molibden və Niobium tozlarının qarışdırılması və sonra tam sıxlığa qədər sıxılması ilə hazırlanır. Beləliklə, sıxılmış materiallar isteğe bağlı olaraq sinterlənir və sonra istənilən hədəf formasına gətirilir.
Molibden Niobium püskürtmə hədəfi yüksək temperaturda yüksək ərimə nöqtəsinə, gücə və möhkəmliyə malikdir. O, həmçinin aşağı istilik genişlənmə əmsalı ilə əla istilik və elektrik keçiriciliyi nümayiş etdirir. Niobiumun molibdenə əlavə edilməsi maye kristal displey pikselini ən azı üç dəfə yaxşılaşdırır.

Molibden Niobium püskürtmə hədəfi Düz Panel Ekran (FPD) üçün kritik materiallardır və Maye Kristal Ekran (LCD) mənbəyi kuboid maye kristal displey, sahə emissiyası ekranı, üzvi işıq yayan displey, plazma üçün molibden-niobium ərintilərində böyük miqdarda istifadə olunur. displey panelləri, katodolüminesans displey, vakuum flüoresan displey, TFT çevik displey və toxunma ekranlar və s. Panel ekranı proseslərinin elektron şüası ilə buxarlanması emitterin yuxarı ucunda Niobium çöküntüsü yarada bilər ki, bu da yüksək dəqiqliyə malik böyük ekranların işlənib hazırlanmasında çox faydalı olacaq.

Rich Special Materials Püskürtmə Hədəfinin İstehsalında ixtisaslaşmışdır və Müştərilərin spesifikasiyasına uyğun olaraq Molibden Niobium Püskürtmə Materialları istehsal edə bilər. Əlavə məlumat üçün bizimlə əlaqə saxlayın.