حول تطبيق ومبدأ تقنية رش الهدف، استشار بعض العملاء شركة RSM، والآن بالنسبة لهذه المشكلة الأكثر اهتمامًا، يشارك الخبراء الفنيون بعض المعرفة المحددة ذات الصلة.
تطبيق الهدف الاخرق:
تقصف الجسيمات المشحونة (مثل أيونات الأرجون) سطحًا صلبًا، مما يتسبب في هروب جزيئات السطح، مثل الذرات أو الجزيئات أو الحزم من سطح الجسم، من خلال ظاهرة تسمى "الاخرق". في طلاء الرش المغنطروني، عادةً ما تُستخدم الأيونات الموجبة الناتجة عن تأين الأرجون لقصف المادة الصلبة (الهدف)، ويتم ترسيب الذرات المحايدة المتناثرة على الركيزة (قطعة العمل) لتشكيل طبقة فيلم. يتميز طلاء الرش المغنطروني بخاصيتين: "درجة الحرارة المنخفضة" و"السريع".
مبدأ الرش المغنطروني:
تتم إضافة مجال مغناطيسي متعامد ومجال كهربائي بين القطب المستهدف المتناثر (الكاثود) والأنود، ويتم ملء الغاز الخامل المطلوب (عادة غاز Ar) في غرفة الفراغ العالية. يشكل المغناطيس الدائم مجالًا مغناطيسيًا 250-350 غاوس على سطح المادة المستهدفة، ويشكل مجالًا كهرومغناطيسيًا متعامدًا مع المجال الكهربائي عالي الجهد.
تحت تأثير المجال الكهربائي، يتأين غاز Ar إلى أيونات وإلكترونات موجبة، ويوجد ضغط سلبي مرتفع معين على الهدف، وبالتالي تتأثر الإلكترونات المنبعثة من القطب المستهدف بالمجال المغناطيسي واحتمال التأين للعمل يزيد الغاز. تتشكل بلازما عالية الكثافة بالقرب من الكاثود، وتتسارع أيونات الأريون إلى السطح المستهدف تحت تأثير قوة لورنتز وتقصف السطح المستهدف بسرعة عالية، بحيث تهرب الذرات المتناثرة على الهدف من السطح المستهدف بقوة عالية الطاقة الحركية وتطير إلى الركيزة لتكوين فيلم وفقًا لمبدأ تحويل الزخم.
ينقسم الرش بالمغنطرون بشكل عام إلى نوعين: الرش بالتيار المستمر و الرش بالترددات اللاسلكية. مبدأ معدات الرش بالتيار المستمر بسيط، ويكون المعدل سريعًا عند رش المعادن. استخدام الاخرق RF هو أكثر اتساعا، بالإضافة إلى الاخرق المواد الموصلة، ولكن أيضا الاخرق المواد غير الموصلة، ولكن أيضا إعداد الاخرق التفاعلي للأكاسيد والنيتريدات والكربيدات وغيرها من المواد المركبة. إذا زاد تردد التردد الراديوي، فإنه يتحول إلى بلازما ميكروويف. في الوقت الحاضر، يتم استخدام رنين السيكلوترون الإلكتروني (ECR) من نوع بلازما الميكروويف بشكل شائع.
وقت النشر: 01 أغسطس 2022