كيفية تحسين معدل استخدام المواد المستهدفة الموليبدينوم

تم استخدام أهداف الموليبدينوم المرقطة على نطاق واسع في صناعة الإلكترونيات والخلايا الشمسية وطلاء الزجاج وغيرها من المجالات نظرًا لمزاياها الكامنة. مع التطور السريع للتكنولوجيا الحديثة في التصغير والتكامل والرقمنة والذكاء، سيستمر استخدام أهداف الموليبدينوم في الزيادة، كما ستصبح متطلبات الجودة الخاصة بها مرتفعة بشكل متزايد. لذلك نحن بحاجة إلى إيجاد سبل لتحسين معدل استخدام أهداف الموليبدينوم. الآن، سيقدم محرر RSM عدة طرق لتحسين معدل استخدام أهداف الموليبدينوم المتطايرة للجميع

1. أضف الملف الكهرومغناطيسي على الجانب الخلفي

من أجل تحسين معدل استخدام هدف الموليبدينوم المتناثر، يمكن إضافة ملف كهرومغناطيسي على الجانب الخلفي لهدف الموليبدينوم المسطح المغنطروني، ويمكن زيادة المجال المغناطيسي على سطح هدف الموليبدينوم عن طريق زيادة تيار الملف الكهرومغناطيسي، وذلك لتحسين معدل استخدام هدف الموليبدينوم.

2. حدد المادة المستهدفة الدوارة الأنبوبية

بالمقارنة مع الأهداف المسطحة، فإن اختيار هيكل الهدف الأنبوبي الدوار يسلط الضوء على مزاياه الجوهرية. بشكل عام، معدل استخدام الأهداف المسطحة هو فقط من 30% إلى 50%، في حين أن معدل استخدام الأهداف الدوارة الأنبوبية يمكن أن يصل إلى أكثر من 80%. علاوة على ذلك، عند استخدام هدف الرش المغنطروني ذو الأنبوب المجوف الدوار، نظرًا لأن الهدف يمكن أن يدور حول مجموعة المغناطيس الثابتة طوال الوقت، فلن يكون هناك إعادة ترسيب على سطحه، وبالتالي فإن عمر الهدف الدوار يكون بشكل عام أطول بأكثر من 5 مرات من هدف الطائرة.

3. استبدلها بمعدات رش جديدة

المفتاح لتحسين معدل استخدام المواد المستهدفة هو استكمال استبدال معدات الاخرق. أثناء عملية رش مادة الموليبدينوم المستهدفة، سوف يترسب حوالي سدس ذرات الرش على جدار غرفة التفريغ أو قوسها بعد تعرضها لأيونات الهيدروجين، مما يزيد من تكلفة تنظيف معدات التفريغ ووقت التوقف عن العمل. لذا فإن استبدال معدات الرش الجديدة يمكن أن يساعد أيضًا في تحسين معدل استخدام أهداف رش الموليبدينوم.