የተንግስተን ሲሊሳይድ ቁርጥራጮች

Tungsten silicide WSi2 በማይክሮኤሌክትሮኒክስ ውስጥ እንደ ኤሌክትሪክ ንዝረት ቁሳቁስ ፣ በፖሊሲሊኮን ሽቦዎች ላይ በመገጣጠም ፣ ፀረ-ኦክሳይድ ሽፋን እና የመቋቋም ሽቦ ሽፋን ጥቅም ላይ ይውላል። ቱንግስተን ሲሊሳይድ በማይክሮኤሌክትሮኒክስ ውስጥ እንደ እውቂያ ቁሳቁስ ጥቅም ላይ ይውላል ፣ ከ60-80μΩ ሴ.ሜ የመቋቋም አቅም ያለው። በ 1000 ዲግሪ ሴንቲ ግሬድ ውስጥ ይመሰረታል. ብዙውን ጊዜ የፖሊሲሊኮን መስመሮችን (ኮርፖሬሽኑን) ለመጨመር እና የሲግናል ፍጥነትን ለመጨመር እንደ ሹት ጥቅም ላይ ይውላል. የ tungsten ሲሊሳይድ ንብርብር በኬሚካላዊ የእንፋሎት ማጠራቀሚያ, ለምሳሌ የእንፋሎት ማጠራቀሚያ ማዘጋጀት ይቻላል. ሞኖሲላኔን ወይም ዲክሎሮሲላን እና ቱንግስተን ሄክፋሉራይድ እንደ ጥሬ እቃ ጋዝ ይጠቀሙ። የተቀመጠው ፊልም ስቶይቺዮሜትሪክ ያልሆነ እና ማደንዘዣን ወደ ይበልጥ የሚመራ ስቶቲዮሜትሪክ ቅርፅ ለመቀየር ይፈልጋል።

Tungsten ሲሊሳይድ የቀድሞውን የ tungsten ፊልም ሊተካ ይችላል. Tungsten ሲሊሳይድ በሲሊኮን እና በሌሎች ብረቶች መካከል እንደ ማገጃ ንብርብር ጥቅም ላይ ይውላል.

በተንግስተን ሲሊሳይድ በማይክሮ ኤሌክትሮ መካኒካል ሲስተም ውስጥ በጣም ዋጋ ያለው ነው ፣ ከእነዚህም መካከል tungsten ሲሊሳይድ በዋነኝነት ማይክሮ ሰርኩይትን ለማምረት እንደ ቀጭን ፊልም ያገለግላል። ለዚሁ ዓላማ, የ tungsten ሲሊሳይድ ፊልም ለምሳሌ ሲሊሳይድ በመጠቀም በፕላዝማ ሊቀረጽ ይችላል.

የበለጸጉ ልዩ ቁሶች ስፕትተርን ኢላማን በማምረት ላይ ያተኮሩ እና የተንግስተን ሲሊሳይድ ማምረት ይችላሉ።ቁርጥራጮችበደንበኞች ዝርዝር መሰረት. ለበለጠ መረጃ እባክዎን ያግኙን።