Nou verstaan meer en meer gebruikers die tipe teikens endie toepassings daarvan, maar die onderverdeling daarvan is dalk nie baie duidelik nie. Nou kom onsRSM ingenieur met jou deel'n mate van induksie van magnetron sputterende teikens.
Sputtering-teiken: metaalverstuiving-bedekkingsteiken, allooi-verstuiving-bedekkingsteiken, keramiek-spattering-bedekkingsteiken, boried-keramiek-sputterteiken, karbied-keramiek-sputterteiken, fluoried-keramiek-sputter-teiken, nitried-keramiek-sputter-teiken, oksied-keramiek-teiken, selenied-keramiek-sputter-teiken, silicide sputtering-teiken teiken, sulfied keramiek sputtering teiken, telluride keramiek sputtering teiken, ander keramiek teikens, Chroom gedoteerde silikonoksied keramiek teiken (CR SiO), indium fosfied teiken (INP), lood arseen teiken (pbas), indium arseen teiken (InAs).
Magnetronsputtering word oor die algemeen in twee tipes verdeel: DC-sputtering en RF-sputtering. Die beginsel van GS-sputtertoerusting is eenvoudig, en die tempo daarvan is ook vinnig wanneer metaal gesputter word. RF-sputtering word wyd gebruik. Benewens die sputtering van geleidende data, kan dit ook nie-geleidende data sputter. Die sputterteiken kan ook vir reaktiewe sputtering gebruik word om saamgestelde data soos oksiede, nitriede en karbiede voor te berei. As die RF-frekwensie toeneem, sal dit mikrogolfplasma-sputtering word. Tans word elektronsiklotronresonansie (ECR) mikrogolfplasma-sputtering algemeen gebruik.
Postyd: Mei-26-2022