Die teiken het 'n wye mark, toepassingsgebied en groot ontwikkeling in die toekoms. Om u te help om die teikenfunksies beter te verstaan, sal die RSM-ingenieur hieronder kortliks die hoof funksionele vereistes van die teiken voorstel.
Suiwerheid: suiwerheid is een van die belangrikste funksionele aanwysers van die teiken, want die suiwerheid van die teiken het 'n groot impak op die funksie van die film. In praktiese toepassing is die suiwerheidsvereistes van die teiken egter ook anders. Byvoorbeeld, met die vinnige ontwikkeling van die mikro-elektroniese industrie, word die grootte van silikonwafel uitgebrei van 6 "tot 8" tot 12 ", en die bedradingwydte word verminder van 0.5um tot 0.25um, 0.18um of selfs 0.13um. Voorheen kan 99,995% van die teikensuiwerheid voldoen aan die prosesvereistes van 0,35umic, terwyl die voorbereiding van 0,18um-lyne 99,999% of selfs 99,9999% van die teikensuiwerheid vereis.
Onsuiwerheidsinhoud: onsuiwerhede in teiken vaste stowwe en suurstof en waterdamp in porieë is die vernaamste besoedelingsbronne van gedeponeerde films. Teikens vir verskillende doeleindes het verskillende vereistes vir verskillende onsuiwerheidsinhoude. Byvoorbeeld, suiwer aluminium en aluminiumlegerings teikens wat in die halfgeleierbedryf gebruik word, het spesiale vereistes vir alkalimetaalinhoud en radioaktiewe elementinhoud.
Digtheid: om die porieë in die teiken vaste stof te verminder en die funksie van sputterfilm te verbeter, moet die teiken gewoonlik hoë digtheid hê. Die digtheid van die teiken beïnvloed nie net die sputtertempo nie, maar beïnvloed ook die elektriese en optiese funksies van die film. Hoe hoër die teikendigtheid, hoe beter is die funksie van die film. Daarbenewens word die digtheid en sterkte van die teiken verbeter sodat die teiken die termiese spanning in die sputterproses beter kan aanvaar. Digtheid is ook een van die sleutel funksionele aanwysers van die teiken.
Postyd: 20 Mei 2022