Voordele van silindriese en planêre magnetron sputterteikens

Tegniese konsultant van RSM sal die voordele van silindriese en planêre magnetron sputtering teikens met jou deel? In vergelyking met ander magnetron sputterteikens, behou silindriese en planêre magnetron sputtering teikens die voordele van goeie deklaag eenvormigheid van reghoekige planêre teikens, en kan die benutting van teikens deur die volgende twee maniere maksimeer:

(1) Wanneer die twee groepe (vier) ringvormige putte op die oppervlak van die teiken 'n sekere diepte bereik, kan die teikenkern (magneetdeel) 45 ° gedraai word relatief tot die teikenbuis, sodat ander areas op die teikenbuis wat nie gekorrodeer is nie, kan gebruik word;

(2) Wanneer die teikenkern van die silindriese en planêre magnetron-sputterteiken ontwerp is as 'n roterende teikenkern (die teikenkern roteer tydens sputtering), kan die oppervlak van die teiken eweredig laag vir laag sonder putte afgespat word. Op hierdie tydstip sal die teiken die doeltreffendste gebruik word, en die benuttingskoers van die teiken kan 50% ~ 60% bereik. Wanneer die teikenmateriaal edelmetaal is, is dit natuurlik van groot belang.

Deur die beginsel van magneet met poolskoen in koaksiale silindriese magnetron sputterteiken te gebruik om die probleem van eindmagnetiese veld op te los, kan die reghoekige vlakteiken omskep word in 'n silindriese en planêre magnetron sputtering teiken, Die teiken kan die benuttingstempo van die teiken maksimeer terwyl die goeie deklaag eenvormigheid van die reghoekige vlak teiken behou word om ekonomiese voordele te verbeter.